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等離子除臭設(shè)備的技能要害
時間:2022-03-02 11:30?來源:未知
等離子除臭設(shè)備的技能要害
1.
等離子除臭設(shè)備
使用了***功率真空紫外光光源,與一般光解技能比較取得了更高的光解與氧化效率。
2.使用***定范圍多波段紫外光,取得了紫外光催化與光解協(xié)同作用的作用。
3.開發(fā)新型催化技能,發(fā)生多種羥基自由基,改善難降解物質(zhì)的凈化作用,***幅提升氧化效率。
4.采用新型霧化增濕設(shè)備,保障煙氣的濕度與溫度的控制,提供更佳的除味處理條件。
5.組合式的氧化工藝,保障對油煙光解后的小分子集團能有效氧化,再生成水(H2O)、二氧化碳(CO2)等小分子物質(zhì),無二次污染殘留物。
6.本技能使用220V市電清潔動力,無需增加化學(xué)藥劑,霧化增濕設(shè)備用水量較少,無污水排放。
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